Masuk Bebas bergabung
Video
1 / 4
Silika Fumed untuk Resin Polyester Tidak Jenuh (UPR)
$4.00
≥100 Kilogram
| Brand Name : | HJSIL® Fumed Silica |
|---|---|
| place of origin : | China |
Deskripsi Produk
Silika Fumed Amorf untuk Resin Polyester Tidak Jenuh (UPR)
Keterangan:
Resin poliester tak jenuh umumnya merupakan senyawa polimer linier dengan ikatan ester dan ikatan rangkap tak jenuh, yang dibentuk oleh polikondensasi diol asam dibasic tak jenuh atau diol asam dibasic jenuh. Di negara kita, material telah banyak digunakan dan dikembangkan dengan cepat, dan sekarang merupakan bagian integral dari banyak objek plastik yang diperkuat serat kaca. Silika kami membantu mengendalikan viskositas resin poliester tak jenuh, meningkatkan anti-pemasangan dan penebalan, sementara juga menjadi pengental yang sangat diperlukan dan efisien.
Pelapis, cat, tinta cetak
Resin poliester tak jenuh (UPR)
Panas karet silikon vulkanisir (HTV)
Sealant, perekat
Perawatan Pribadi dan Kosmetik
Bahan isolasi
Manfaat untuk resin poliester tak jenuh
Kontrol reologi optimal untuk viskositas yang ideal
Mencegah padatan karena mengendap dalam resin
Resin seperti gel yang ditipis saat dicukur untuk pemrosesan yang mudah
Data fisik dan kimia:
| Properties and test methods | Unit | Typical Value | Standardization |
| Specific surface area (BET) | m2/g | 200 ± 25 | GB/T 20020 |
| pH value (in 4% dispersion) | 3.6 ~ 4.5 | GB/T 20020 | |
| Loss on drying (2 hours at 105 °C) | Wt% | ≤ 1.5 | GB/T 20020 |
|
Loss on ignition (2 hours at 1000 °C,based on material dried for 2 hours at 105 °C) |
Wt% | ≤ 2.5 | GB/T 20020 |
| Sieve residue (45 μm) | mg/kg | ≤ 250 | GB/T 20020 |
| Silica content (based on ignited material) | Wt% | ≥ 99.8 | GB/T 20020 |
|
Tamped density (based on material dried for 2 hours at 105 °C) |
g/dm³ | 40 ~ 60 | GB/T 20020 |
Minmetals East New Materials Fumed Silica Production Base, the main products provided include hydrophilic silica, hydrophobic silica, and various custom-developed silica pro
Video
Kirim pertanyaan Anda ke pemasok ini